| 型号： | 非标定制 | 规格： | 185nm,254nm,172nm |
| 商标： | Tobey | 包装： | 纸箱 |
| 产量： | 1000000 |
紫外线光清洗灯，UV清洗灯基本介绍
光清洗制程:
使用UV是於1980年代初将光洗净法实用化，一直到90年代以改质为目的被广泛的应用。
由UV而产生之氧化反应，其效果依被处理物之种类而定分为洗净和改质两大项
而光处理法的基本原理UV是拥有杀菌能量的一种电磁波也是属於光的一种，其波长领域极广，
100mm ~400mm为紫外线放射范围，属於UV-C范围，因其波长短UV能量高，其值和很多有机物之化学结合之能量值相近，易起反应生成各种作用及效果，其中具代表的作用就是洗净.
改质对塑料玻璃陶瓷或是耐蚀性佳之金属而言有显著的效果
紫外线光清洗灯，UV清洗灯性能特点二、紫外光清洗的特点：
1、是一种无接触方式，可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。
2、可 清除物体表面的碳和有机污染物。
3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。
4、保证产品的高可靠性和高成品率。
5、产品表面清洗处理的均匀度一致。
6、由於光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物，所以容易发生氧化的表面不宜用光清洗方法，只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多，无机类污垢清洗。
紫外线光清洗灯，UV清洗灯技术参数| 型号 （U,H） | 管径 （D） | 管压 (V) | 电流 (mA) | 功率 (W) | 安装长度 (ｍｍ) | 弧长 （ｍｍ） | 备注 |
| SVR40U | 17.5 | 95±5 | 450 | 40 | 270 | 200 | |
| SVR70U | 17.5 | 100±5 | 800 | 70 | 370 | 300 | |
| SVR90U | 17.5 | 130±5 | 800 | 90 | 530 | 455 | |
| SVR110U | 17.5 | 130±5 | 900 | 110 | 640 | 565 | |
| SVR160U | 17.5 | 150±5 | 1000-1200 | 160 | 780 | 705 | |
| SVR200U | 17.5 | 130±5 | 1200-1500 | 200 | 820 | 755 |
主要在液晶显示器件、半导体矽晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法为合适。
主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、矽晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。
可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。
此UV光源在LCD工艺中又具有UV改质(紫外光表面质变)的特点，目前在液晶显示器STN的生产过程中，主要是用在膜处理技术上，对於改善膜与膜之间的密接是非常有效的，如ITO膜与感光胶膜层， 涂层与PI涂层等等。另在研究部门又可用来UV改性塑料材料产品，用於纳米技术研究，产品经此UV光照射发生化学反应，使产品表面性质改变。 STN-LCD、彩色滤光片及OLED的制作过程中，有些制程设备相当雷同，差别在於制造工艺要求的不同。随著线路的精细化及产品的彩色比，LCD产业对制造工艺的要求也不断地提升，而有"工欲善其事，必先利其器"之需求，因此只有设备能力不断地精进，才能提高生产的质量与效率。
